電弧法生產石英坩堝技術_百度文庫
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(二)現代(dai)的石英(ying)(ying)坩(gan)堝現代(dai)拉(la)單晶(jing)的石英(ying)(ying)坩(gan)堝一般(ban)是(shi)采(cai)用電弧法(fa)生產,半透明狀,是(shi)由于硅酸鋇的存在,使得石英(ying)(ying)坩(gan)堝壁上(shang)形(xing)成一層(ceng)致(zhi)密微小的方石英(ying)(ying)結(jie)晶(jing)。這種微小的方。
石英坩堝_百度百科
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石英陶瓷坩堝是太(tai)陽(yang)能(neng)電池用多(duo)(duo)晶硅鑄錠過(guo)程(cheng)中用來(lai)裝載多(duo)(duo)晶硅原(yuan)料的(de)容器(qi),具(ju)有結構精細、熱(re)導率低、熱(re)膨脹系數小、尺寸精度(du)高、高溫不變形、熱(re)震(zhen)穩定性好、電性能(neng)好。
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[3-BG35988]環狀電弧生(sheng)產石英玻璃坩堝的工藝和裝置及石英玻璃坩堝[技(ji)術摘要]625-BG35988一(yi)種用(yong)于石英坩堝氫氧(yang)化鋇涂層的裝置及方法226-BG35988一(yi)。
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少(shao)坩(gan)堝的(de)(de)內表面(mian)涂(tu)覆有所述鎂、鈣(gai)、鍶或鋇的(de)(de)金屬(shu)氧(yang)化物。坩(gan)堝的(de)(de)涂(tu)層不易(yi)磨損并可提供用坩(gan)堝拉制(zhi)成(cheng)的(de)(de)單(dan)晶硅的(de)(de)高無位(wei)錯比例。[3、]環狀電(dian)弧(hu)生(sheng)產石英玻璃坩(gan)堝的(de)(de)。
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2.現(xian)代(dai)的石英坩堝(guo)(guo)現(xian)代(dai)拉單晶(jing)的石英坩堝(guo)(guo)一般是采用電弧(hu)法(fa)生產,半透明狀,是通常的做法(fa)是將石英坩堝(guo)(guo)壁涂上(shang)一層含有(you)結晶(jing)水的氫氧化鋇(Ba(OH)2.8H2O)(。
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制作合(he)適的電(dian)弧法(fa)石(shi)英坩(gan)堝(guo)熔(rong)制模具;(2)熔(rong)制石(shi)英坩(gan)堝(guo)時(shi),在(zai)電(dian)弧法(fa)石(shi)英坩(gan)堝(guo)熔(rong)制后,也可(ke)以在(zai)其內表面人工(gong)或者設備冷涂一(yi)層0.1-0.5mm厚度(du)的氧化鋇或氧化鋯。
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1.石(shi)英坩堝(guo)可(ke)在1450度(du)以下使用(yong),分透明(ming)和(he)不透明(ming)兩種。用(yong)電弧法(fa)制的半透明(ming)石(shi)英氧化鋇溶液使其形成致密(mi)層,其致密(mi)層能阻止單晶硅(gui)高溫拉(la)制過(guo)程中硅(gui)與石(shi)英坩堝(guo)反應。
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現(xian)代(dai)的坩堝通常應用電(dian)弧(hu)法(fa)消(xiao)耗(hao),半透明狀(zhuang),存在(zai)有內(nei)外兩層結(jie)構,外層是(shi)高氣泡(pao)密當石英坩堝被(bei)加熱時,碳(tan)酸鋇(bei)將會被(bei)分解造成氧化鋇(bei),與石英坩堝反應生成硅酸鋇(bei),而。
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公(gong)司成(cheng)功開(kai)發出he-g24型(xing)高純度光伏環保石英(ying)坩堝、碳(tan)酸鋇(bei)涂層石英(ying)坩堝等多(duo)(duo)項高新技(ji)術(shu)產品,取得了電弧石英(ying)坩堝熔(rong)制機堝體(ti)、石英(ying)坩堝碳(tan)酸鋇(bei)涂層等多(duo)(duo)項技(ji)術(shu),并(bing)承(cheng)擔了。
綜述熔融石英坩堝的研制方法-新聞_石英玻璃_石英玻璃管_石英
密封涂(tu)(tu)(tu)層涂(tu)(tu)(tu)敷器(qi)及(ji)其測(ce)量設備220CN201110279743.3石英(ying)坩(gan)(gan)堝鋇涂(tu)(tu)(tu)層的(de)(de)噴(pen)涂(tu)(tu)(tu)設備221CN氧化鈦(tai)的(de)(de)石英(ying)玻璃及(ji)其制(zhi)備方(fang)法(fa)3208CN201210026333.2電(dian)弧法(fa)石英(ying)玻璃坩(gan)(gan)堝缺(que)陷(xian)返修(xiu)的(de)(de)。
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主(zhu)營:10--16寸電弧石(shi)英(ying)坩(gan)堝(guo)(guo)(guo);半導體單(dan)(dan)晶工商注冊(ce):2011(人民幣(bi)50萬(wan)元)主(zhu)營:石(shi)英(ying)坩(gan)堝(guo)(guo)(guo);單(dan)(dan)晶石(shi)英(ying)坩(gan)堝(guo)(guo)(guo)全自動噴涂(tu)機;氫氧化鋇;石(shi)英(ying)砂(sha);單(dan)(dan)晶石(shi)英(ying)坩(gan)堝(guo)(guo)(guo)燒。
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2013年1月16日-貫(guan)穿于石英(ying)坩(gan)(gan)(gan)堝(guo)(guo)熔(rong)制、烘干、酸洗、涂鋇整個(ge)生(sheng)(sheng)產(chan)(chan)流程(cheng),提高了石英(ying)坩(gan)(gan)(gan)堝(guo)(guo)生(sheng)(sheng)產(chan)(chan)的(de)這種坩(gan)(gan)(gan)堝(guo)(guo)幾乎遭(zao)到淘汰;現代的(de)坩(gan)(gan)(gan)堝(guo)(guo)通常(chang)是使用(yong)電弧法生(sheng)(sheng)產(chan)(chan)的(de)半透(tou)明石英(ying)坩(gan)(gan)(gan)堝(guo)(guo),。
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